一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统

授权

摘要

本实用新型提出一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统，该系统用于紫外纳米压印光刻中实现样片与掩模的自动脱模。该系统以掩模架和掩模板为水平基准，利用升降驱动机构带动三点弹性支撑机构、承片台、基片上升，基片与基准掩模板接触调平后，气动及控制机构锁紧三点弹性支撑机构，同时升降驱动机构停止上升。然后在基片的下表面通正压，通过“气压压印+紫外固化”的形式进行图像转移，接着通过承片台上的三个升降气缸实现基片与掩模的自动脱模。

基本信息

专利标题：

一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020987741.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-03

授权号：

CN213149470U

授权日：

2021-05-07

发明人：

龚健文胡松于军胜赵立新杨勇杜婧

申请人：

中国科学院光电技术研究所;电子科技大学

申请人地址：

四川省成都市双流350信箱

代理机构：

代理人：

优先权：

CN202020987741.4

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00