一种基片自动定位装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种基片自动定位装置，真空吸盘上表面用于铺设基片，真空吸盘左右两侧对称设有驱动机构，驱动机构上装配有定位部；定位部包括远离真空吸盘一侧固定装配于驱动机构活动部的支撑杆，支撑杆靠近真空吸盘一侧固定装配有定位叉；在旋涂前，使用本实用新型的定位装置定位圆心，不接触基片表面，避免了污染和损坏基片上的纳米结构，提高了定位精度和稳定性，有利于胶层厚度的一致性和均匀性；基片的圆心与真空吸盘的中心同轴，能够令真空吸附力分布更加均匀，避免基片在高速旋转时上下颠簸，避免“飞片”现象的发生；定位装置可以定位多种尺寸的基片；本实用新型实现智能化生产，实现基片快速对中定位，提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种基片自动定位装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020641865.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-25
授权号 ：
CN212093056U
授权日 ：
2020-12-08
发明人 ：
冀然
申请人 ：
青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020641865.7
主分类号 ：
B05C13/02
IPC分类号 ：
B05C13/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C13/00
操纵或夹持工件的方法，如对单个物体
B05C13/02
对特殊物品
法律状态
2020-12-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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