基片传送装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
基片传送装置，该真空处理设置具有若干工作站、一个加热装置和若干基片支架，基片支架可以是板式的、扁平的和平行六面体的，且可在垂直状态下沿预定的传送路径通过工作站。在真空室内给实心的下端部（6）装上保持和导引装置，并给该下端部（６）装上用金银丝工艺制成的（ｆｉｌｉｇｒａｎ）平面框架结构的上端部（７），待加工的基片（２３、２３′…）借助于一个基片支架（１４、１５）悬挂在该框架上，并且基片支架（１４、１５）可活动地保持在框架上，当加热产生长度改变时，基片支架（１４、１５）可相对框架运动。
基本信息
专利标题 ：
基片传送装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1073648A
申请号 ：
CN92114574.8
公开（公告）日 ：
1993-06-30
申请日 ：
1992-11-27
授权号 ：
CN1040524C
授权日 ：
1998-11-04
发明人 ：
Ｐ·马勒Ｈ·沃尔夫
申请人 ：
鲍尔泽斯和利博尔德德国控股公司
申请人地址 ：
联邦德国哈瑙
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
林道棠
优先权 ：
CN92114574.8
主分类号 ：
B65G49/00
IPC分类号 ：
B65G49/00 C23C14/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B65
输送；包装；贮存；搬运薄的或细丝状材料
B65G
运输或贮存装置，例如装载或倾卸用输送机、车间输送机系统或气动管道输送机
B65G49/00
其他类目不包含的以其要求特定目的为特点的输送系统
法律状态
2002-01-16 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1998-11-04 ：
授权
1995-03-01 ：
实质审查请求的生效
1993-06-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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