一种光刻机基片定位装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种光刻机基片定位装置，属于光刻机技术领域。该一种光刻机基片定位装置，包括光刻机本体和基片固定组件。所述基片固定组件包括承片台和定位件以及除尘件，所述除尘件包括抽风机、抽风主管道、抽风分管道和安装板，所述安装板连接至所述承片台，所述抽风机连接至所述安装板，所述抽风主管道固定至所述抽风机的抽风端，所述抽风分管道设有两个，两个所述抽风分管道分别连通至所述抽风主管道，且两个所述抽风分管道外端均连接有吸尘罩，所述吸尘罩内壁还均设有过滤网。在本实用新型中，基片固定组件具有除尘功能，能够在基片光刻前或者光刻过程中对承片台上部的灰尘飞絮进行快速清理。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻机基片定位装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022190363.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN212873188U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
杨光宇
申请人 ：
锐捷芯盛（天津）电子科技有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区滨海高新区华苑产业区海泰华科三路1号6号楼-912
代理机构 ：
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 ：
周庆路
优先权 ：
CN202022190363.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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