一种光刻机衬底定位装置
授权
摘要
本实用新型提供一种光刻机衬底定位装置，包括底座以及转动连接在底座前端的衬底板，所述底座后端中间位置固定连接第一驱动设备的固定部，所述第一驱动设备的活动部贯穿底座并固定连接大锥形齿轮，所述大锥形齿轮外端等距啮合三个小锥形齿轮，所述小锥形齿轮背离大锥形齿轮一端固定连接螺杆，所述螺杆外端螺纹连接螺母座，所述螺母座前端可拆卸连接定位柱，所述衬底板前端等距开设呈圆形布置的三个导向通槽，所述定位柱贯穿导向通槽，该设计利用大锥形齿轮以及三个小锥形齿轮，会使三个螺杆进行同步转动，会使三个螺母座以及相应的定位柱向内移动，从而利用三个定位柱，达到对圆晶产品进行三点定位夹持的目的，提升定位效果，适用性好。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻机衬底定位装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123107295.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-10
授权号 ：
CN216696982U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
胡德立
申请人 ：
江苏微影半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省盐城市经济技术开发区希望大道南路18-3号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123107295.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
