衬底台、测量衬底位置的方法以及光刻装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种设置成可支承设有至少一个衬底标记的衬底的衬底台。该至少一个衬底标记具有可利用对准系统来测得的位置。衬底台设有光学系统，该光学系统具有不等于1的放大系数，以用于提供将通过该对准系统来测量的该至少一个衬底标记的图像。
基本信息
专利标题 ：
衬底台、测量衬底位置的方法以及光刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1782884A
申请号 ：
CN200510127016.X
公开（公告）日 ：
2006-06-07
申请日 ：
2005-11-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
H·W·M·范布伊F·G·C·比南J·布格胡恩H·P·T·托斯马P·坦伯格
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
赵辛
优先权 ：
CN200510127016.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-03-25 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-02 ：
实质审查的生效
2006-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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