位移测量装置和光刻设备
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种位移测量装置和一种光刻设备。所述位移测量装置的读头模块内设置有至少一个光束合光元件以及若干反向回射元件,第一入射光束和第二入射光束相对于衍射元件的法线方向分别以第一角度和第二角度照射到所述衍射元件的不同位置,所产生的衍射光经读头模块引导,进入至少一个所述光束合光元件,获得相应的输出光束,所述输出光束被用于获得衍射元件的位移信息。由于第一入射光束和第二入射光射可以非平行入射到所述衍射元件来获得初始的衍射光束以及相应的输出光束,提高了入射光束的角度容差,具有宽角度适应的优点,有助于减小位移测量装置的安装和姿态控制难度。所述光刻设备包括所述位移测量装置。

基本信息
专利标题 :
位移测量装置和光刻设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114384763A
申请号 :
CN202011126453.0
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2020-10-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴萍
申请人 :
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
王宏婧
优先权 :
CN202011126453.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G01B11/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201020
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332