位移测量装置、掩模台测量系统和光刻机
授权
摘要
本实用新型提供了一种位移测量装置、掩模台测量系统和光刻机，位移测量装置包括光源、第一方向位移测量组件、第二方向位移测量组件、光探测模块和光信号处理模块，第一方向与第二方向相互垂直；光源用于发出第一测量光束和第二测量光束；第一方向位移测量组件包括相对设置的光栅和读头；读头包括两个对称设置的回射器；第二方向位移测量组件包括相对设置的干涉仪和反射元件；光探测模块用于探测第一方向位移干涉信号和第二方向位移干涉信号；光信号处理模块用于计算第一方向位移以及第二方向位移。本实用新型通过采用一维光栅与反射元件的组合，可以实现二维位移量的测量，不仅成本低、性能高，而且具有宽角度适应性，使用更加便捷。
基本信息
专利标题 ：
位移测量装置、掩模台测量系统和光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021866735.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-31
授权号 ：
CN212806922U
授权日 ：
2021-03-26
发明人 ：
吴萍
申请人 ：
上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN202021866735.X
主分类号 ：
G01B11/02
IPC分类号 ：
G01B11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2021-03-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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