水平测量装置及光刻设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种水平测量装置及光刻设备，所述水平测量装置包括：载物台和水平传感器，所述水平传感器用于测量所述载物台上承载的物体表面的平整情况，其中，所述水平传感器包括从水平传感器组中选择的至少一个传感器组件，所述水平传感器组包括尺寸不相同的传感器组件。因此该光刻设备的水平传感器的测量尺寸是可调的，操作人员能够使用测量尺寸与曝光区域尺寸相匹配的水平传感器对晶圆进行测量，测量精确度较高。
基本信息
专利标题 ：
水平测量装置及光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921289507.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-09
授权号 ：
CN210377021U
授权日 ：
2020-04-21
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
罗平
优先权 ：
CN201921289507.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G01B11/30 H01L21/66
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-04-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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