水平传感器、光刻设备以及器件制作方法

专利权的终止

摘要

本发明涉及用于光刻设备中确定衬底表面高度的水平传感器。该水平传感器包括发射器和接收器，其中该发射器布置成发射被导向衬底表面预定位置的信号，使得该信号被衬底至少部分反射以形成反射信号。接收器布置成接收至少部分反射信号，水平传感器布置成基于发射信号和接收信号而确定衬底表面相对于水平传感器的表面高度。该信号包括压力波。

基本信息

专利标题：

水平传感器、光刻设备以及器件制作方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1797213A

申请号：

CN200510134128.8

公开（公告）日：

2006-07-05

申请日：

2005-12-26

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

A·J·A·布鲁恩斯马F·斯塔尔斯R·J·凡威杰克S·尼蒂阿洛夫

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

刘红

优先权：

CN200510134128.8

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2011-03-16 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101056297778
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005101341288
申请日 : 20051226
授权公告日 : 20091014
终止日期 : 20100126

2009-10-14 ：

授权

2008-02-13 ：

实质审查的生效

2006-07-05 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

CN100549833C.PDF

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2、

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