图案形成装置和方法,判断位置的方法、测量设备和光刻装置
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摘要
一种产生光刻图案形成装置的方法,利用光刻投影装置把在图案形成装置中的图案转移到衬底,包括:定义形成在图案形成装置中的图案的特征,该特征具有选定的尺寸和定向以便在衬底上建立所需图像;调整特征的尺寸以补偿所需图像的位移误差和尺寸误差,该位移误差和尺寸误差由图案转移期间特征上的辐射的有效阴影角引入或者与图案转移期间曝光狭缝内的特征的位置有关。用于确定目标图象在衬底上的位置或接近衬底的位置的测量装置,通过图案形成装置上的特征形成目标图象,测量装置包括用于测量目标图象在衬底上的位置或接近衬底的位置的检测器,该检测器补偿目标图像的所测量位置的位移误差和尺寸误差。包括测量装置的光刻装置。
基本信息
专利标题 :
图案形成装置和方法,判断位置的方法、测量设备和光刻装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1904737A
申请号 :
CN200610073977.1
公开(公告)日 :
2007-01-31
申请日 :
2006-02-01
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
U·米坎H·J·M·梅杰
申请人 :
ASML荷兰有限公司
申请人地址 :
荷兰维尔德霍芬
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
梁永
优先权 :
CN200610073977.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 H01L21/027 G06F17/00 G03F9/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-01-20 :
授权
2008-02-13 :
实质审查的生效
2007-01-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN100582947C.PDF
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2、
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