本公开实施例提出了一种光刻机，所述光刻机包括控制装置、激光光源、电光调制器、光纤传输系统、光聚焦系统以及电驱动工件台，所述控制装置与所述电光调制器以及所述电驱动工件台连接，所述控制装置用于基于设计版图控制所述电光调制器对于所述激光光源发射的激光进行调制得到相应的曝光脉冲以及控制所述电驱动工作台进行运动。本公开实施例利用电光调制器对激光进行光强度的开关调制，调制的频率可以达到100GHz，利用同步化的电驱动工件台和电光调制在涂覆光刻胶的半导体晶圆或其他研发试样上形成大面积的微米纳米级图案，适用于集成电路或其它类似集成微纳系统研究、研发和生产。