一种光刻机台
授权
摘要
本实用新型涉及一种光刻机台，包括硅片轨道区和曝光区，硅片轨道区上设置有硅片输入台和硅片输出台，曝光区上设置有载出台、曝光台和载入台，硅片轨道区与曝光区之间连接有等待区，等待区上设置有可移动的硅片承座，等待区靠近硅片输入台一侧设置有制冷口，硅片轨道区靠近硅片输入台一侧设置有抽气口；光刻机台上硅片的温度更加容易控制，有效的降低了硅片在曝光前烘烤的温度，提高光刻精度，抽风台也可以吸走光刻机台上的部分灰尘，降低了精密部件的损坏几率，提高了光刻速度，也实现了高效清洁的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻机台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921885664.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-05
授权号 ：
CN211427043U
授权日 ：
2020-09-04
发明人 ：
冯唐荣黄芳欧阳涛余贤
申请人 ：
江西寻准智能科技有限责任公司
申请人地址 ：
江西省九江市九江经济技术开发区综合工业园区内绿冬丝科园区5号楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921885664.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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