4吋规格notch基片的寻边装置和光刻系统
授权
摘要
本实用新型实施例公开了一种4吋规格notch基片的寻边装置和光刻系统，该4吋规格notch基片的寻边装置包括：载片台，用于承载基片；驱动组件，用于驱动载片台上的基片绕其中心旋转；发射光纤传感器，固定于载片台的底部，用于发射第一光信号，第一光信号照射至基片上；接收光纤传感器，固定于载片台的一侧，用于接收第一光信号经过基片后形成的第二光信号；处理器，与发射光纤传感器和接收光纤传感器通信连接，并根据第一光信号对应的电信号和第二光信号对应的电信号，确定基片的notch位置。本实用新型实施例提供的寻边装置，对原有寻flat信号的改造，使之具有寻notch功能，即可使Nikon G6光刻机能够实现4吋规格notch基片基于notch口的寻边，满足技术需求。
基本信息
专利标题 ：
4吋规格notch基片的寻边装置和光刻系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020861795.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-21
授权号 ：
CN212256005U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
李华王晓军
申请人 ：
上海探跃半导体设备有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区宣桥镇宣秋路210号E幢1楼北侧101室
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
孟金喆
优先权 ：
CN202020861795.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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