一种晶圆平边寻边装置和光刻机
授权
摘要
本实用新型实施例公开了一种晶圆平边寻边装置和光刻机。该晶圆平边寻边装置包括：承载台，用于承托和固定晶圆；驱动旋转机构，用于驱动承载台并带动晶圆旋转；光纤束，包括至少一根光发射光纤和至少一根光接收光纤；光纤束的端口对准晶圆的边缘区域；工控板，与光纤束连接，用于向光发射光纤提供光信号，光信号经晶圆反射形成光反射信号；还用于接收光接收光纤采集的光反射信号，并根据光接收光纤采集的光反射信号生成平边到位信号；信号控制板，信号控制板的缺口到位信号端与工控板电连接，信号控制板通过缺口到位信号端接收平边到位信号。本实用新型实施例解决了现有光刻机只能对缺口型晶圆进行寻边的问题，能够简化寻边装置的结构，降低成本。
基本信息
专利标题 ：
一种晶圆平边寻边装置和光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022036164.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-16
授权号 ：
CN213122599U
授权日 ：
2021-05-04
发明人 ：
李华王晓军
申请人 ：
上海探跃半导体设备有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区宣桥镇宣秋路210号E幢1楼北侧101室
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
孟金喆
优先权 ：
CN202022036164.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-05-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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