晶圆冷却装置及采用该晶圆冷却装置的光刻机
授权
摘要

本实用新型提供一种晶圆冷却装置及采用该晶圆冷却装置的光刻机,至少包括:箱体,所述箱体的前后位置分别设有前开合门和后开合门,与所述箱体活动连接;排气孔,设置于所述箱体底面或侧面;吹扫气体系统,设置于所述箱体顶部,所述吹扫气体系统至少包括吹扫板和与所述吹扫板连接的、为所述吹扫板提供吹扫气体的进气管,所述吹扫板上开设有若干个与箱体内腔贯通的出气孔;冷盘系统,设置于所述箱体底部,所述冷盘系统至少包括盘面和位于盘面下的冷却水管。通过增加吹扫气体系统,清除晶圆表面灰尘的同时增加晶圆表面的空气流动,提高晶圆冷却速度,从而进一步提高晶圆的传送速率,增加光刻机产能。

基本信息
专利标题 :
晶圆冷却装置及采用该晶圆冷却装置的光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920494512.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-12
授权号 :
CN209543040U
授权日 :
2019-10-25
发明人 :
刘普然黄志凯叶日铨
申请人 :
德淮半导体有限公司
申请人地址 :
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
余明伟
优先权 :
CN201920494512.6
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2019-10-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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