小尺寸工件镀膜装置、真空镀膜机及其镀膜方法
实质审查的生效
摘要

本申请涉及一种小尺寸工件镀膜装置、真空镀膜机及其镀膜方法,所述镀膜装置包括:卧式安装的转筒以及沿所述转筒轴向设置的靶材;其中,转筒内侧面上设置有突出部,靶材在转筒内侧壁位置处产生电场;在镀膜过程中,转筒在驱动装置驱动下进行转动,通过突出部带动放置在转筒内的工件进行翻滚;靶材产生带电粒子,并通过电场作用使得带电粒子运动到翻滚中的工件表面上附着并均匀镀膜;该技术方案,减少了转筒对带电粒子的物理阻挡作用,避免了转筒外部电场对带电粒子屏蔽作用,保证带电粒子的能量,从而提高了膜层的附着力,提升了镀膜效率和镀膜效果;同时,粒子直接沉积到工件上,大大减少靶材的数量,提高靶材利用率和镀膜效率。

基本信息
专利标题 :
小尺寸工件镀膜装置、真空镀膜机及其镀膜方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481047A
申请号 :
CN202210111775.0
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
朱昆陈惠君颜学庆曹健辉刘玮马伟姜文曹祯烨杜翰翔李冬娜刘晓兰
申请人 :
广东省新兴激光等离子体技术研究院;等离子体装备科技(广州)有限公司
申请人地址 :
广东省广州市白云区北太路1633号科盛路8号配套服务大楼5层A505-258房
代理机构 :
广州市律帆知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王园园
优先权 :
CN202210111775.0
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32  C23C14/35  C23C14/50  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20220126
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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