真空镀膜装置
授权
摘要
一种真空镀膜装置，用于在通过真空泵抽真空的条件下，利用化学单体气体的聚合在待镀膜工件的表面形成聚合物膜层。该真空镀膜装置包括一反应腔室和一管路组件。该反应腔室内设有用于放置该待镀膜工件的支架，并且该反应腔室具有至少一进料口和一或多个抽气口，其中该反应腔室的该进料口用于将该化学单体气体添加至该反应腔室内。该管路组件包括一抽真空管路，其中该抽真空管路适于将该反应腔室的该抽气口与该真空泵连通，以经由该抽气口对该反应腔室进行抽真空。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021412068.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
CN213590825U
授权日 ：
2021-07-02
发明人 ：
宗坚
申请人 ：
江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山经济开发区玉祁配套区东环路182号
代理机构 ：
宁波理文知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
罗京
优先权 ：
CN202021412068.8
主分类号 ：
B05B5/08
IPC分类号 ：
B05B5/08
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05B
喷射装置；雾化装置；喷嘴
B05B5/00
静电喷射装置；能使喷雾带电的喷射装置；用其他的电手段来喷射液体或其他流体的装置
B05B5/08
把液体或其他流体涂于物体上的设备
法律状态
2021-07-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
