真空镀膜设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种真空镀膜设备，包括真空炉、蒸发热源、冷却装置、以及旋转支架。真空炉内形成有镀膜腔室，蒸发热源设置在真空炉的内壁面上，以将镀膜材料加热蒸发到镀膜腔室内。冷却装置包括在真空炉的外壁面周向分布的至少两组冷却组件，每一冷却组件包括在真空炉的外壁面在竖直方向并排间隔设置的进液通道、出液通道、以及在真空炉的外壁面上由上至下间隔分布的若干冷却支路，冷却支路一端连通进液通道，并由进液通道沿真空炉的外壁向下倾斜连通至出液通道。冷却液进入进液通道，再从各冷却支路分流流到出液通道流出，在冷却液流动过程中，可以将真空炉的热量带走，使真空炉内的温度保持在镀膜需求的范围内，还可开启适当数量的冷却组件冷却。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920716025.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-17
授权号 ：
CN210030874U
授权日 ：
2020-02-07
发明人 ：
郑威李锦干徐华毕
申请人 ：
深圳市华尔利泰电子科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区松岗街道象山大道225号二楼左、三、四层
代理机构 ：
深圳正和天下专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨波
优先权 ：
CN201920716025.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-02-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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