真空镀膜设备
授权
摘要
一种真空镀膜设备，其包括机壳、自动化插片机、工艺主机、传输通道及机械爪，所述自动化插片机、所述工艺主机、所述传输通道和所述机械爪位于所述机壳中，所述传输通道连接所述自动化插片机和所述工艺主机，还包括位于所述传输通道旁侧的应急通道，当所述传输通道出现问题舟时，所述机械爪将所述问题舟抓取至所述应急通道，如此设计，在不影响正常生产的情形下，能够及时、快速的处理问题舟，提高产能。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020594785.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-20
授权号 ：
CN213113501U
授权日 ：
2021-05-04
发明人 ：
姚良张良俊王亨
申请人 ：
江苏微导纳米科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区新硕路9-6-2
代理机构 ：
苏州佳博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
罗宏伟
优先权 ：
CN202020594785.0
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/458 C23C16/52
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2021-05-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN213113501U.PDF
PDF下载
