真空镀膜腔室及真空镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了真空镀膜腔室及真空镀膜设备，真空镀膜腔室，包括腔室本体，腔室本体的顶部和底部分别通过螺栓安装有顶盘和底盘，且顶盘和底盘相邻的一侧外壁上通过轴承活动连接有等距离呈环形结构分布的定位座，顶盘的内部开设有传动腔。本实用新型电机带动主动齿轮转动，主动齿轮啮合从动齿轮带动定位座进行转动，使得柱杆通过料架带动工件进行旋转镀膜加工，极大的提升了工件镀膜的均匀性和加工效率，柱杆两端插接在定位座的内部，此时，定位块插接在定位槽的内部，提升了柱杆插接固定后的稳定性，而承接盘通过弹簧对柱杆进行顶持，进而方便柱杆进行拆卸安装，使得料架上的工件更加方便从真空镀膜设备内取出和固定。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜腔室及真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122488511.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-15
授权号 ：
CN216614834U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
杨海成
申请人 ：
东莞耀捷镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市长安镇乌沙社区第六工业区海滨路7号4楼
代理机构 ：
深圳市兴科达知识产权代理有限公司
代理人 ：
卢传贤
优先权 ：
CN202122488511.0
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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