腔室冷却装置及反应腔室
授权
摘要
本发明提供一种腔室冷却装置及反应腔室，包括槽状本体、隔水板、冷却管和多个喷嘴，其中，冷却管设置在槽状本体相对的两个侧边，且用于向多个喷嘴中通入冷却介质，多个喷嘴用于向槽状本体中通入冷却介质，隔水板覆盖在槽状本体上，并在隔水板中设置有供冷却介质通过的中心通孔，多个喷嘴分为两组，分别对应设置在槽状本体相对两个侧边的冷却管上；每个喷嘴的出口方向满足自每个喷嘴的出口喷出的冷却介质均朝向贯穿中心通孔的径向轴线的方向流动。本发明提供的腔室冷却装置及反应腔室，其能够避免空气在槽状本体中无法排除，并且减少槽状本体中冷却介质乱流的情况发生，从而提高腔室冷却装置的冷却效果。
基本信息
专利标题 ：
腔室冷却装置及反应腔室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111647876A
申请号 ：
CN201910160484.9
公开（公告）日 ：
2020-09-11
申请日 ：
2019-03-04
授权号 ：
CN111647876B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
弓利军
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭瑞欣
优先权 ：
CN201910160484.9
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2020-10-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20190304
申请日 : 20190304
2020-09-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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