真空反应腔室和真空镀膜设备
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型提供一种真空反应腔室和真空镀膜设备，涉及真空设备领域。该真空反应腔室，包括：用于提供真空环境的外腔体，以及位于所述外腔体内的用于进行工艺反应的内反应腔；所述内反应腔的侧壁上设有自动门，所述自动门连接自动门控制器，工件自所述外腔体经所述自动门进入所述内反应腔中。利用该真空反应腔室能够解决现有真空设备中由于只设置一个反应腔室造成的工艺环境易被污染、工艺原料易被浪费、环境温度可控性低等问题，达到降低污染，提高工艺质量的目的。
基本信息
专利标题 ：
真空反应腔室和真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921119514.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-16
授权号 ：
CN211112211U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
杨娜
申请人 ：
君泰创新(北京)科技有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区亦庄经济技术开发区荣华南路9号院2号楼10层
代理机构 ：
北京华夏泰和知识产权代理有限公司
代理人 ：
姜波
优先权 ：
CN201921119514.3
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2021-01-29 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 16/50
登记生效日 : 20210118
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 君泰创新(北京)科技有限公司
变更后权利人 : 德运创鑫（北京）科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100176 北京市大兴区亦庄经济技术开发区荣华南路9号院2号楼10层
变更后权利人 : 101149 北京市通州区中关村科技园区通州园金桥科技产业基地环科中路17号26幢1至3层102-LQ307
登记生效日 : 20210118
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 君泰创新(北京)科技有限公司
变更后权利人 : 德运创鑫（北京）科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100176 北京市大兴区亦庄经济技术开发区荣华南路9号院2号楼10层
变更后权利人 : 101149 北京市通州区中关村科技园区通州园金桥科技产业基地环科中路17号26幢1至3层102-LQ307
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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