真空镀膜设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种真空镀膜设备，其包括镀膜机箱、多个蒸发舟、电极、正极电性件、负极电性件和连接电性件。镀膜机箱内设有真空镀膜腔，正极电性件和负极电性件安装于镀膜机箱外，电极安装于真空镀膜腔内，多个蒸发舟呈纵向排列地安装于真空镀膜腔内，蒸发舟的正极端电性连接于正极电性件，蒸发舟的负极端电性连接于负极电性件。正极电性件、负极电性件和连接电性件的第一端位于同一侧，正极电性件、负极电性件和连接电性件的第二端位于同一侧，正极电性件的第一端用于与电源的正极相接，连接电性件的第二端与负极电性件的第二端电性相连，连接电性件的第一端用于与电源负极相接。本发明的真空镀膜设备能使各蒸发舟的发热功率相等。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318296A
申请号 ：
CN202210148335.2
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2022-02-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
任泽明廖骁飞余长勇王号吴攀唐志奇杨帆杨进仕
申请人 ：
广东思泉新材料股份有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市企石镇江边村金磊工业园A栋1-2楼
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
谭裕强
优先权 ：
CN202210148335.2
主分类号 ：
C23C16/448
IPC分类号 ：
C23C16/448 C23C16/509
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/448
申请日 : 20220217
申请日 : 20220217
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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