一种真空镀膜设备

授权

摘要

本实用新型属于真空镀膜装置技术领域，尤其为一种真空镀膜设备，包括镀膜箱，所述镀膜箱上通过合页转动连接有箱门，所述镀膜箱的内部固定安装有隔板，所述镀膜箱的内部通过隔板分为第一镀膜室和第二镀膜室，所述隔板上开设有用于固定电子设备的固定孔，所述镀膜箱的顶部设置有用于给第一镀膜室和第二镀膜室充气的进气装置，所述镀膜箱的顶部设置有循环镀膜液的循环雾化装置。本实用新型通过第一镀膜室、第二镀膜室、循环雾化装置和进气装置的配合，将镀膜液雾化后在第一镀膜室和第二镀膜室之间进行循环从而对电子设备的内部进行镀膜，可以提高了对电子设备内部的镀膜效果，减少了镀膜次数，提高了镀膜效率。

基本信息

专利标题：

一种真空镀膜设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921489499.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-06

授权号：

CN210815940U

授权日：

2020-06-23

发明人：

杨玉飞

申请人：

江阴慕达斯真空设备有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市江阴市城东街道山观澄山路697号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201921489499.1

主分类号：

B05B16/00

IPC分类号：

B05B16/00 B01D46/24