一种镀膜均匀的真空镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种镀膜均匀的真空镀膜设备，具体涉及真空镀膜领域，包括真空箱，所述真空箱内部中心处固定设有固定机构，所述固定机构包括固定筒、齿轮组、一号固定杆、二号固定杆和接触块，所述齿轮组活动设于固定筒内部，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于固定筒两侧，所述接触块固定设于固定筒底部，所述一号固定杆和二号固定杆远离固定筒的一端均固定设有固定板，所述固定筒两侧表面均开设有开槽，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于对应开槽内部，所述真空箱内部底端开设有底槽。本实用新型可提供真空蒸发镀膜及真空电镀膜两种加工方式，减少生产成本，便于调整靶件的镀膜方式，使用更加灵活方便。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜均匀的真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921931023.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-08
授权号 ：
CN211170855U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
张新岳
申请人 ：
深圳市瑞泓塑胶五金镀膜技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区松岗街道燕川社区新达路13号厂房
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
周志中
优先权 ：
CN201921931023.9
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26 C23C14/32 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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