真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了真空镀膜装置，包括真空镀膜室、固定台，真空镀膜室由腔室隔板分隔为多个镀膜空间，真空镀膜室中部固定有固定架，固定架通过转动轴与电机传动连接；固定台设置在真空镀膜室底部，固定台顶部开设环形凹槽，环形凹槽内嵌入镀膜台，镀膜台上放置基材。本实用新型的真空镀膜装置能同时对多个基材进行镀膜、还可在不同镀膜空间内设定不同的镀膜参数，对基材镀膜进行对比实验，镀膜效率较高。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921985842.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-18
授权号 ：
CN210856317U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
蒋贵霞贾建国
申请人 ：
昆山英利悦电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市山淞路297号8号楼2楼
代理机构 ：
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 ：
董建林
优先权 ：
CN201921985842.1
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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