真空镀膜设备
专利权的终止
摘要
本实用新型提供的真空镀膜设备，有真空室[1]，真空室内安装有工件架[6]，真空室上有供工件进出的门[2]，所说门设置在真空室顶部。本实用新型提供的真空镀膜设备，将供工件进出的门设置在真空室的顶盖上，使工件可以从顶部单根吊装到工件架上。即工件是从顶部吊入并装到工件架上的，与现有技术相比，本实用新型克服了工件进出时大型工件进出无法应用吊装工具或不能单根吊装的不足。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820166972.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-10-24
授权号 ：
CN201276592Y
授权日 ：
2009-07-22
发明人 ：
陆汉良
申请人 ：
舟山市汉邦机械科技有限公司
申请人地址 ：
316000浙江省舟山市定海区马岙镇景陶路27号
代理机构 ：
舟山固浚专利事务所
代理人 ：
范荣新
优先权 ：
CN200820166972.8
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/48
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2015-12-09 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101637490212
IPC(主分类) : C23C 14/35
专利号 : ZL2008201669728
申请日 : 20081024
授权公告日 : 20090722
终止日期 : 20141024
号牌文件序号 : 101637490212
IPC(主分类) : C23C 14/35
专利号 : ZL2008201669728
申请日 : 20081024
授权公告日 : 20090722
终止日期 : 20141024
2009-07-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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