真空镀膜设备的密封结构和真空镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了真空镀膜设备的密封结构,包括第一真空室、第二真空室和密封组件,第一真空室的第一面板开设有第一通孔,第二真空室位于第一真空室一侧并与其可拆卸连接,第二真空室包括与第一面板相抵接的第二面板,第二面板开设有第二通孔;密封组件包括安装板、第一密封圈和第二密封圈,安装板开设有第三通孔,第三通孔的周缘设有环形凸台,环形凸台嵌设于第一通孔内,第一面板和第二面板均与安装板可拆卸连接,第一密封圈位于环形凸台与第二面板之间,第二密封圈位于安装板与第一面板之间。结构简单、方便拆装,可以解决更换密封连接相邻真空腔体密封圈花费大量时间、人力和物力的问题,不需要移开任何真空腔体即可进行维护。
基本信息
专利标题 :
真空镀膜设备的密封结构和真空镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022454964.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-29
授权号 :
CN213624365U
授权日 :
2021-07-06
发明人 :
王志海邝斌陈金良齐鹏飞赖新暖
申请人 :
中山瑞科新能源有限公司
申请人地址 :
广东省中山市火炬开发区火炬路13号
代理机构 :
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 :
朱芳艳
优先权 :
CN202022454964.7
主分类号 :
C23C14/56
IPC分类号 :
C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备;维持真空的装置,例如真空锁定器
法律状态
2021-07-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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