金属卷材真空镀膜设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种金属卷材真空镀膜设备,包括加热真空腔体、多弧离子沉膜腔体、放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶、抽真空装置和控制系统,金属卷材一端从放卷装置上引出顺序经过加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体并最终缠绕于收卷装置上收卷,加热装置能给加热真空腔体内部空间加热到设定温度,多弧离子靶固定安装于多弧离子沉膜腔体内并能够将有色金属沉积在金属带表面形成彩色镀膜,抽真空装置给加热真空腔体和多弧离子沉膜腔体抽真空到指定的真空度,控制系统控制放卷装置、收卷装置、加热装置、多弧离子靶和抽真空装置运行,本实用新型能在卷材表面形成牢固的镀膜层,且镀膜色彩鲜艳、美观,本实用新型还节省设备占用空间。

基本信息
专利标题 :
金属卷材真空镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020084926.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-15
授权号 :
CN211367707U
授权日 :
2020-08-28
发明人 :
成林
申请人 :
昆山浦元真空技术工程有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市张浦镇俱巷路136号3号房
代理机构 :
昆山中际国创知识产权代理有限公司
代理人 :
尤天珍
优先权 :
CN202020084926.4
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32  C23C14/56  C23C14/16  C23C14/06  C23C14/54  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-08-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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