金属板带真空镀膜设备
专利权的终止
摘要

本实用新型提供了一种金属板带真空镀膜设备,包括金属板带放卷机,加热蒸发金属材料的至少一把电子枪、在金属板带与被蒸发金属材料之间的金属蒸汽周围设置的将金属蒸汽电离成金属离子的等离子体机构,真空镀膜室,金属板带收卷机,在放卷机与真空镀膜间有对金属板带进行预加热的加热机构、至少一组对金属板带表面进行活化处理的离子束预处理机构。用线形电子枪蒸发金属材料,形成的金属蒸汽通过高密度的等离子体区时被电离成金属离子,金属离子在电场力的作用下快速的沉积在金属板带上,达到对金属板带镀膜的目的。该设备生产表面镀膜金属板带产量高、低成本,且获得的镀膜表面微观结构非常致密,表面平滑。

基本信息
专利标题 :
金属板带真空镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620034017.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-04-28
授权号 :
CN2934268Y
授权日 :
2007-08-15
发明人 :
甘国工
申请人 :
甘国工
申请人地址 :
610100四川省成都市龙泉驿区经济技术开发区星光中路东泰(成都)工业有限公司
代理机构 :
成都立信专利事务所有限公司
代理人 :
江晓萍
优先权 :
CN200620034017.X
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2010-08-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101004352236
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL200620034017X
申请日 : 20060428
授权公告日 : 20070815
2007-08-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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