本实用新型提供一种新型真空镀膜设备，包括真空室、设于真空室内且用于对真空室进行抽真空的抽真空装置、设于真空室内且用于对基材进行传送和冷却的基材传送装置以及用于向基材喷涂气态有机镀膜材料的雾化加热装置，雾化加热装置包括用于对液态有机镀膜材料进行雾化的雾化装置、用于对雾化后的有机镀膜材料进行汽化的加热装置以及设于加热装置内且用于带动气态有机镀膜材料附着于基材表面上的涂覆载体组件。本实用新型解决了以往薄膜制备方式效率低、膜层厚度受限、腔体污染及为提高效率导致系统复杂等技术问题，可以更高效的获得性能优良的膜层。