一种真空镀膜工件转台
著录事项变更
摘要

本实用新型提供了一种真空镀膜工件转台,其包括承载组件及载物组件,承载组件包括传动件、与传动件固定连接的定位件及安装在传动件顶端的连接组件,载物组件包括滑动件及安装于滑动件上方且滑动件固定连接的载物件,滑动件分别与定位件及连接组件可拆卸插接配合,连接组件包括上下中心对称设置的一对卡盘a及连接卡盘a的销轴,该实用新型通过在卡盘a上设置弧状腰形孔与定位孔,一对所述卡盘a通过销轴连接形成连接组件,同时第二导向单元与定位孔插接,在保证载物件可快速拆卸的前提下,解决了现在有技术中载物件转动的过程中易出现晃动的技术问题。

基本信息
专利标题 :
一种真空镀膜工件转台
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921171825.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-24
授权号 :
CN210506511U
授权日 :
2020-05-12
发明人 :
王晖
申请人 :
浙江法德装备科技有限公司
申请人地址 :
浙江省湖州市长兴县画溪街道城南路12-3
代理机构 :
湖州长兴西木子知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
韩燕燕
优先权 :
CN201921171825.4
主分类号 :
C23C14/50
IPC分类号 :
C23C14/50  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-08-24 :
著录事项变更
IPC(主分类) : C23C 14/50
变更事项 : 发明人
变更前 : 王晖
变更后 : 王叔晖
2020-05-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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