基片固定盘及利用该基片固定盘的基片校正系统及其方法

专利申请权、专利权的转移

摘要

本发明提供一种基片固定盘，为了在真空工程用垂直基片固定盘的平板面上固定和支持所述基片，包含至少一部分以上基片固定单元，并且，通过固定和支持垂直布置的基片，可以进行高精度的校正和更加稳定的蒸镀工艺。基片固定盘(60)及利用该基片固定盘(60)的基片校正系统及其方法，包含被蒸镀蒸镀物的基片(10)、用于容纳所述基片(10)的框架(70)、用于容纳所述框架(70)而构成的盘(60)、用于在所述框架(70)上固定和支持所述基片(10)而构成的至少一个以上基片固定单元(110)。

基本信息

专利标题：

基片固定盘及利用该基片固定盘的基片校正系统及其方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1800443A

申请号：

CN200510117051.3

公开（公告）日：

2006-07-12

申请日：

2005-10-31

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

韩尚辰宋官燮康熙哲郑锡宪

申请人：

三星SDI株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司

代理人：

韩明星

优先权：

CN200510117051.3

主分类号：

C23C14/54

IPC分类号：

C23C14/54 C23C14/50 C23C14/24

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C14/00

通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆

C23C14/22

以镀覆工艺为特征的

C23C14/54

镀覆工艺的控制或调节

法律状态

2012-12-12 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101482551209
IPC(主分类) : C23C 14/54
专利号 : ZL2005101170513
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 三星移动显示器株式会社
变更后权利人 : 三星显示有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道水原市
变更后权利人 : 韩国京畿道龙仁市
登记生效日 : 20121108

2011-07-27 ：

发明专利更正

发明专利公报更正号牌文件类型代码 : 1608
号牌文件序号 : 101118244437
卷 : 26
号 : 35
页码 : 无
申请号 : 2005101170513
IPC(主分类) : C23C0014540000
修正类型代码 : 无
更正项目 : 说明书附图11
误 : 序号错误
正 : 序号正确

2011-07-27 ：

发明专利更正

号 : 35
页码 : 说明书
卷 : 26
申请号 : 2005101170513
更正项目 : 说明书附图11
误 : 序号错误
正 : 序号正确

2010-09-01 ：

授权

2009-02-18 ：

专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 三星SDI株式会社
变更后权利人 : 三星移动显示器株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道
变更后权利人 : 韩国京畿道水原市
登记生效日 : 20090116

2006-09-06 ：

实质审查的生效

2006-07-12 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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