光刻设备和静电夹具设计
公开
摘要
本文的实施例描述了用于使用增强式静电夹具减小夹具‑掩模版界面处的电场的方法、装置和系统。具体地，所述静电夹具包括夹具本体、设置在所述夹具本体的顶表面上的电极层以及从所述夹具本体的底表面突出的多个突节，其中所述电极层包括预定位置处的多个切口，所述预定位置竖直地对应于所述夹具本体的所述顶表面处的所述多个突节的位置。
基本信息
专利标题 ：
光刻设备和静电夹具设计
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114586139A
申请号 ：
CN202080072366.3
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-10-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
V·A·佩雷斯-福尔肯M·A·范德柯克霍夫D·L·哈勒C·J·马森亚瑟·温弗里德·爱德华达斯·明内尔特J·H·J·莫尔斯S·A·内菲
申请人 ：
ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
胡良均
优先权 ：
CN202080072366.3
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683 H01L21/687 G03F7/20
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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