检测辐射束的光刻设备和方法
公开
摘要
一种被配置为保持衬底的衬底台，包括：多个传感器元件，被配置为检测来自投影系统的辐射束，辐射束形成在衬底水平具有细长形状的照射区域，细长形状具有长边缘和短边缘并且限定纵向方向和垂直于纵向方向的横向方向，传感器元件沿着纵向方向布置，其中多个传感器元件被布置为在横向方向上与细长形状的长边缘中的一个相距不同距离。
基本信息
专利标题 ：
检测辐射束的光刻设备和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450636A
申请号 ：
CN202080067173.9
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-09-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
G·因庞特W·J·恩格伦N·W·M·普兰茨
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
胡良均
优先权 ：
CN202080067173.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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