光学布置、特别是光刻系统
授权
摘要
本发明涉及光学布置，特别是光刻系统(1)，其包括：特别是反射镜(3)的可移动部件，移动部件(3)的至少一个致动器(4)，以及具有限制部件(3)的移动的邻接表面(12)的至少一个邻接件(6)。光学布置包括在邻接件(6)上或多个邻接件上，以在相同移动方向(+X、‑X、‑Y、+Y)上限制可移动部件(3)的移动的至少两个邻接表面，该邻接表面特别是配备为施加于可移动部件(3)的相同侧，和/或光学布置包括相对于可移动部件(3)移动邻接件(6)的至少一个其他致动器(9)以及确定邻接件(6)的邻接表面(12)和可移动部件(3)之间的距离(A)的至少一个距离传感器(13)。光学布置还可以包括反射镜(3)形式的减少重量的可移动部件。
基本信息
专利标题 ：
光学布置、特别是光刻系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110383174A
申请号 ：
CN201780087714.2
公开（公告）日 ：
2019-10-25
申请日 ：
2017-11-13
授权号 ：
CN110383174B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
B.盖尔里希R.兹韦林C.塞维奥尔M.埃拉思J.普罗希瑙M.内夫齐V.库利茨基A.洛伦兹S.沙夫
申请人 ：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN201780087714.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G21K1/06 G02B7/182
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2020-02-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20171113
申请日 : 20171113
2019-10-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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