场分面系统、光学布置和光刻装置
公开
摘要
一种用于光刻装置(100A、100B)的场分面系统(300A、300B、300C、300D、300E)，包括：光学元件(302)，其中该光学元件(302)包括具有光学有效表面(304)的基座区段(308)，和配置在该基座区段(308)的背向该光学有效表面(304)的后侧(310)处的多个拉杆区段(312、312A‑312D、314、314A‑314D)；以及两个或更多个致动元件(330、330A‑330J、332)，其借助作为拉杆的该拉杆区段(312、312A‑312E、314、314A‑314E)设置成分别施加弯曲力矩(M)至该基座区段(308)，以使该基座区段(308)弹性变形，从而改变该光学有效表面(304)的曲率半径(r)，其中，沿该光学元件(302)的长度方向(y)观察，所述致动元件(330、330A‑330J、332)串联布置。
基本信息
专利标题 ：
场分面系统、光学布置和光刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341736A
申请号 ：
CN202080058558.9
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-06-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
G·鲁道夫J·罗西尔斯
申请人 ：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN202080058558.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B26/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
