一种光学组件以及光刻系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种光学组件、光刻系统以及光刻投影方法，通过在基底101上设置反射层102，在基底101背面和/或基底101与反射层102之间设置热电层103，能够通过热电层103将光学组件中的热能转换为电能，从而及时把热能从光学组件中传导出去，降低了光学组件的温度，避免了光学组件因受热变形，有效提高了光学组件的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种光学组件以及光刻系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020592980.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-20
授权号 ：
CN211628005U
授权日 ：
2020-10-02
发明人 ：
李建新曾依蕾杨忠宪
申请人 ：
福建省晋华集成电路有限公司
申请人地址 ：
福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号
代理机构 ：
北京聿宏知识产权代理有限公司
代理人 ：
吴大建
优先权 ：
CN202020592980.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-10-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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