用于光学光刻系统的监视系统
授权
摘要
监视光学光刻系统。从光学光刻系统接收信息；访问规则，该规则与光学光刻系统中的事件和时间量中的一项或多项相关联；基于访问的规则标识存储在模块库中的模块；使用所标识的模块和从光学光刻系统接收的信息，确定光学光刻系统中是否存在特定条件；并且如果存在特定条件，则基于特定条件的一个或多个特性来生成命令信号，并将命令信号提供给光学光刻系统的光源。该命令信号基于所确定的特定条件，并且该命令信号足以改变光源的一个或多个操作参数。
基本信息
专利标题 ：
用于光学光刻系统的监视系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110651228A
申请号 ：
CN201880033471.9
公开（公告）日 ：
2020-01-03
申请日 ：
2018-04-02
授权号 ：
CN110651228B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
A·多罗班图M·R·格雷厄姆J·J·索内斯K·M·奥布里恩
申请人 ：
西默有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
董典红
优先权 ：
CN201880033471.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03B27/54 G03C5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2020-02-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180402
申请日 : 20180402
2020-01-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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