一种直写式光刻机的光学系统
授权
摘要
本实用新型提出一种直写式光刻机的光学系统，包括多个相同的光学子系统，每个光学子系统包括：照明模块，配置为产生光刻所需的照明光束；空间光调制模块，配置为对照明光束进行调制以形成图形光；第一双远心成像模块，配置为对所述空间光调制模块产生的图形光进行成像，以形成像面光斑；微透镜阵列模块，配置为将所述第一双远心成像模块形成的像面光斑聚焦成为光斑阵列；第二双远心成像模块，配置为将光斑阵列再次成像并投射到基板上；调焦模块，包括可相对移动的上直角楔形棱镜和下直角楔形棱镜，配置为调节所述光学子系统的焦面。采用上述光学子系统能够显著提高光刻图形的精度。
基本信息
专利标题 ：
一种直写式光刻机的光学系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121767959.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-07-31
授权号 ：
CN216351771U
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
张柯魏帅董昱君张雷
申请人 ：
源能智创（江苏）半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市玉山镇南淞路111号华平（昆山）智造园B-6号厂房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202121767959.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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