一种直写式光刻机的对准装置
授权
摘要
本实用新型公开一种直写式光刻机的对准装置,包括第一图像获取模块、第二图像获取模块、多个标记模块,第一图像获取模块位于直写式光刻机的吸盘台面下方,第二图像获取模块位于吸盘台面上方,吸盘台面的边缘等距或不等距的开设有多个安装槽,多个标记模块安装在多个安装槽中,每个标记模块包括标记板,标记板的第一端靠近吸盘台面的边缘,标记板的第二端向吸盘台面的吸附区域延伸,安装槽对应标记板的第二端的下方的位置设有通孔,第一图像获取模块至少部分位于通孔下方,标记板的第二端设有多个背面对准标记点,多个背面对准标记点位于通孔上方。本实用新型能够实现无需激光打标,不会损伤工件,也不会受工件空余区域大小的限制。
基本信息
专利标题 :
一种直写式光刻机的对准装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122246386.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-16
授权号 :
CN216351772U
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
马运军李波李志汪旭张雷
申请人 :
源能智创(江苏)半导体有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市玉山镇南淞路111号华平(昆山)智造园B-6号厂房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202122246386.2
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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