本实用新型涉及一种光刻技术领域，为一种直写式光刻机曝光控制系统，包括光电传感器、滤波放大电路、模数转换器、可编程逻辑器件、数模转换器、控制电路、光源、主控制器、上位机，光电传感器的输出经过滤波放大电路、模数转换器与可编程逻辑器件连接，可编程逻辑器件的输出经过数模转换器与控制电路连接，控制电路的输出连接光源，可编程逻辑器件还通过主控制器与上位机连接。它克服现有技术曝光精度不高的问题，实现了曝光剂量的精确控制，可广泛应用于芯片制造、印刷电路板、掩膜板、平板显示器、生物芯片、微机械系统、光学玻璃平板等衬底上印刷构图等场合。