一种直写光刻机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种直写光刻机构，其包括光源模组、曝光系统和放置待曝光基板的基板平台，曝光模组将光源模组的光线投影到所述基板上，其还包括至少一个升温装置，所述升温装置包括热源，所述热源投射热能量至所述基板，使得所述基板的温度升高。通过上述升温装置的使用，使得所述基板在进行曝光的过程中提前预升温，或者在曝光的过程中进行升温处理，或者曝光完成后进行升温处理，提高了光聚合反应的效率，缩短了光聚合反应的时间，进而缩短了光刻机的曝光时间，提高了光刻机的效率。
基本信息
专利标题 ：
一种直写光刻机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920662584.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-08
授权号 ：
CN210348189U
授权日 ：
2020-04-17
发明人 ：
李伟成张雷
申请人 ：
苏州源卓光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920662584.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-04-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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