具有对焦机构的新型直写光刻装置
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及具有对焦机构的新型直写光刻装置,解决了的直写光刻装置存在的光学定位检测系统和曝光投影系统离轴对焦对不同镜头需要分别位移校正的问题。特点在于:平行与光学定位检测系统增设对焦系统,对焦系统包括由上至下依次对应排列的对焦光源、对焦图形发生器、对焦透镜、或透镜组和对焦反射镜,其中对焦反射镜与光学定位检测系统中的检测分束器平行对应。直接利用可变倍率的投影镜头来共轴投射对焦图形,实现不同镜头的共轴对焦,避免了离轴对焦对不同镜头所需要的分别位移校正过程,提高效率,同时减小了离轴对焦装置的成本。
基本信息
专利标题 :
具有对焦机构的新型直写光刻装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720044405.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-09-30
授权号 :
CN201097106Y
授权日 :
2008-08-06
发明人 :
刘文海
申请人 :
芯硕半导体(合肥)有限公司
申请人地址 :
230001安徽省合肥市经济技术开发区乡村花园会所二楼
代理机构 :
合肥金安专利事务所
代理人 :
金惠贞
优先权 :
CN200720044405.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2011-12-07 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101148110294
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2007200444050
申请日 : 20070930
授权公告日 : 20080806
终止日期 : 20100930
号牌文件序号 : 101148110294
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2007200444050
申请日 : 20070930
授权公告日 : 20080806
终止日期 : 20100930
2008-08-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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