一种光刻机的自动对焦的工作装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种光刻机的自动对焦的工作装置,包括基座和活动板,所述活动板的下方安装有对焦装置,所述基座的顶部一侧安装有电磁滑轨,所述电磁滑轨上活动设置有用于实现对焦装置的高度进行调节的高度调节装置,所述对焦装置上设置有用于对其左右对焦调节的滑动组件,所述基座的顶部设置有用于对不同尺寸大小的基片进行固定的固定装置,此光刻机的自动对焦的工作装置,改变了传统的对焦装置高度不易调节的方式,利用设置的高度调节装置,使得该对焦装置在对焦时可调节高度,进而提高对焦效率,并由电磁滑轨和滑动组件的配合,能实现对焦装置的前后左右位置进行自动调节,更进一步的完成精准的对焦工作。

基本信息
专利标题 :
一种光刻机的自动对焦的工作装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021495629.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-24
授权号 :
CN213122598U
授权日 :
2021-05-04
发明人 :
王泽明邓超略朱勤黄文斌赵家峰
申请人 :
湖南印之明智能制造有限公司
申请人地址 :
湖南省湘潭市高新区光华路摇钱社区19号
代理机构 :
北京棘龙知识产权代理有限公司
代理人 :
聂颖
优先权 :
CN202021495629.5
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-05-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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