一种用于光学投影光刻机的自动对焦装置
授权
摘要
本实用新型提供的用于光学投影光刻机的自动对焦装置，包括激光器、激光能量调节器、扩束器、准直透镜、叉丝、成像透镜、分光棱镜、监视系统透镜、监视系统、二向色镜、电子变焦透镜、投影微缩镜头、感光材料及光刻平台，所述感光材料位于所述光刻平台上，本实用新型提供的用于光学投影光刻机的自动对焦装置及对焦方法，通过改变电子变焦透镜的焦距来对焦，调节响应速度快，与机械对焦相比可以快速地使光刻机的光刻图像重新对准焦，适用于光刻机需要快速工作的要求。
基本信息
专利标题 ：
一种用于光学投影光刻机的自动对焦装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020452674.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-31
授权号 ：
CN211786585U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
黄燕燕王笑冰阚凌雁柯华恒
申请人 ：
深圳市深大极光科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区田寮社区聚汇工业园1栋
代理机构 ：
深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹卫良
优先权 ：
CN202020452674.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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