一种单面自动光刻机
授权
摘要
本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种单面自动光刻机，包括机架，机架上设有可圆周转动的机械臂，机械臂的外围沿圆周分布有上料工位、预对位工位、对位工位、NG工位和下料工位，上料工位处设有上料盒，预对位工位处设有预对位装置，对位工位处设有XYY平台、承片台、升降单元和曝光机构，NG工位处设有NG料盒，下料工位处设有下料盒；XYY平台安装在升降单元的自由端上，承片台安装在XYY平台的自由端上，曝光机构位于承片台上方。本实用新型所提供的一种单面自动光刻机，通过机械臂将硅片依次放入各工位进行作业，整个过程不需要人为操作，实现全自动化控制，有效提高工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种单面自动光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122620374.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-28
授权号 ：
CN216622957U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
张其文扶小莲刘阳波陈正洪
申请人 ：
四川鸿源鼎芯科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市龙泉驿区龙泉车城东七路360号行政中心一楼3号
代理机构 ：
成都信捷同创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
左正超
优先权 ：
CN202122620374.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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