一种单面自动光刻机
授权
摘要

本实用新型属于光刻机技术领域,公开了一种单面自动光刻机,包括机架,机架上设有可圆周转动的机械臂,机械臂的外围沿圆周分布有上料工位、预对位工位、对位工位、NG工位和下料工位,上料工位处设有上料盒,预对位工位处设有预对位装置,对位工位处设有XYY平台、承片台、升降单元和曝光机构,NG工位处设有NG料盒,下料工位处设有下料盒;XYY平台安装在升降单元的自由端上,承片台安装在XYY平台的自由端上,曝光机构位于承片台上方。本实用新型所提供的一种单面自动光刻机,通过机械臂将硅片依次放入各工位进行作业,整个过程不需要人为操作,实现全自动化控制,有效提高工作效率。

基本信息
专利标题 :
一种单面自动光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122620374.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-28
授权号 :
CN216622957U
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
张其文扶小莲刘阳波陈正洪
申请人 :
四川鸿源鼎芯科技有限公司
申请人地址 :
四川省成都市龙泉驿区龙泉车城东七路360号行政中心一楼3号
代理机构 :
成都信捷同创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
左正超
优先权 :
CN202122620374.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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