一种单面光刻机
授权
摘要
本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种单面光刻机，包括机架，机架上安装有升降单元、曝光台和曝光机构，升降单元位于曝光台下方，升降单元的自由端安装有XYY平台，XYY平台的自由端上滑动安装有承片台；曝光机构位于曝光台上方，曝光台上设有XYZ三轴运动机构，XYZ三轴运动机构上设有摄像头。使用时人工将硅片放置在承片台并推入，XYY平台实现自动找平，然后升降单元驱动XYY平台上升到位后，摄像头通过图像识别确定对位成功后，曝光机构进行曝光，曝光结束后升降单元驱动XYY平台下降归位，人工将承片台从XYY平台上拉出，将曝光后的硅片取出即可。该单面光刻机可以实现半自动化操作，有效提高工作效率，保证操作的准确性。
基本信息
专利标题 ：
一种单面光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122620444.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-28
授权号 ：
CN216622958U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
张其文扶小莲刘阳波陈正洪
申请人 ：
四川鸿源鼎芯科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市龙泉驿区龙泉车城东七路360号行政中心一楼3号
代理机构 ：
成都信捷同创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
左正超
优先权 ：
CN202122620444.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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