一种单面自动光刻机的对位机构
授权
摘要

本实用新型公开了一种单面自动光刻机的对位机构,包括光刻平台,所述光刻平台上表面分别通过螺栓与定位轮和基准电机固定连接,光刻平台四周分别通过螺栓与第一固定柱固定连接,第一固定柱通过螺栓与对位平台底座固定连接。一种单面自动光刻机的对位机构,相机模组一侧的模组电机工作,将光源相机打开,为产品定位备,然后丝杠电机转动丝杠移动,到达产品定位位置。对位平台电机工作将UVW对位平台根据定位运转到相应位置。探针电机将探针升高,到达光刻平台,基准定位气缸将产品固定加紧通过光源模组进行定位,三个电机控制六个限位,定位精确,提高了光刻机对位机构结构的稳固性,提高了生产效率。

基本信息
专利标题 :
一种单面自动光刻机的对位机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022424628.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-27
授权号 :
CN213399192U
授权日 :
2021-06-08
发明人 :
龚志平
申请人 :
广东莱宝智能装备股份有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市东城区牛山上山门水坑尾1号
代理机构 :
东莞市神州众达专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
刘汉民
优先权 :
CN202022424628.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G03F9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-06-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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